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电子应用
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电阻是导体的固有属性。导体的电阻R跟它的长度L、电阻率ρ成正比,跟它的横截面积S成反比,这个规律就叫电阻定律(law of resistance)。
公式为 R=ρL/S ,其中ρ为制成电阻的材料的电阻率,L为制成电阻的导体长度,S为制成电阻的导体横截面积,R为电阻值。
电阻率是用来表示各种物质电阻特性的物理量。某种物质所制成的原件(常温下20°C)的电阻与横截面积的乘积与长度的比值叫做这种物质的电阻率。
ρ电阻率与导体的长度、横截面积等因素无关,是导体材料本身的电学性质,由导体的材料决定,且与温度、压力、磁场等外界因素有关。
最简单的电阻器就是一块金属。
这种电阻器就叫Element Resistor(翻译为元素电阻器),因为只有金属材料,又叫金属元素电阻器(Metal Element Resistor)。
由这种金属做成的电阻器,其材料一般为各种金属合金(Metal Alloy)。
但是由于金属合金的可焊性不是很好,所以要么给两端镀上镍锡,要么再焊接一块可焊性高的铜片,或者焊接上铜引线。同时为防止金属合金氧化,还会在金属合金外面涂上保护层。
于是就有了以下的电阻器。
金属条电阻器优点是TCR低,功率高,寄生电感量小(只有几纳亨),机械强度高、高频特性优越,适于作电流探测用电阻器。
缺点就是电阻值不大(一般小于1欧姆),因为金属合金的电阻率大。
根据电阻定律: R=ρL/S。有三种方式增大电阻。
1. 减小导体的截面积S。
2. 增大导体的长度L。
3. 增大导体的导电率ρ。
把金属带冷轧成极薄的金属箔,就减小了金属材料的截面积S。金属箔通常定义为 0.004 英寸(0.1016 毫米)及以下的条带。由于金属箔太软,所以需要把金属箔粘贴在不导电的陶瓷基板上。 同时还可以把箔片做成蛇形的图像以增加导体的长度。
把块状的导体用带绝缘漆的导线代替,然后把导线缠绕在绝缘陶瓷上,即绕线电阻器。控制导线的粗细和长度即可以控制电阻的阻值。
改变电阻体导电率还有一种方式:使用不良导体(石墨或者导电陶瓷)和绝缘体(粘土)及胶水混合制成,这种混合体形成的电阻器叫合成物电阻器。
通过控制添加导体的多少可以很容易的控制电阻的阻值。它和绕线电阻器是最古老的两种电阻制作方法。
陶瓷合成物电阻器因其通体导电,不同于绕线、金属膜或者釉膜电阻,故其在无感、高压、大电流等脉冲领域具有绝对的优越性。
陶瓷合成物电阻器适用于高峰值功率和高能脉冲的情况下,同时要求小体积高可靠的应用场合。其内部结构实现了nH级别无感特性,且保证能量在电阻体内均匀的分布,不存在膜式电阻和线绕电阻的缺陷,良好的化学惰性和热稳定性,散热能力明显优于其他类型电阻。 在极端高温的情况下实心陶瓷电阻仍然可以正常工作,其可靠性大大优于线绕电阻和膜式电阻。
20世纪60年代开始,又发展出膜层技术。通过在绝缘基板(或棒状物)上形成电阻膜层来制作电阻器。
由于各个厂家并没有完全给出详细资料,很难有一个系统的分类方法,只能根据业内习惯来分类。
膜层片式电阻(Film Chip Resistor)根据电阻层制作工艺分为:
——厚膜片式电阻器(Thick Film Chip Resistor)
——薄膜片式电阻器(Thin Film Chip Resistor)
膜层插件电阻(Film Through Hole Resistor)根据电阻层材料分为:
——碳膜电阻器(Carbon Film Resistor)
——金属电阻器(Metal Film Resistor)
——金属氧化膜电阻器(Metal Oxide Film Resistor)
——玻璃釉电阻器(Metal Glaze Resistor)
MELF电阻(MELF Resistor)根据电阻层材料分为:
——碳膜电阻器(Carbon Film Resistor)
——金属电阻器(Metal Film Resistor)
其封装的膜层电阻:
除上面几种封装的膜层电阻。如TO封装/SOT227的厚膜电阻,薄膜电阻。
目前最常用的是片式电阻器(Chip Resistor),又叫矩形电阻器,它是是贴片电阻器(SMD Resistor)的一种。片式电阻器根据电阻层材料分为金属箔片式电阻器(Metal Foil Chip Resistor)、金属条片式电阻器(Metal Strip Chip Resistor)、膜层片式电阻器(Film Chip Resistor)。
膜层片式电阻器一般根据膜层制作工艺分为:厚膜片式电阻器、薄膜片式电阻器,很少会根据膜层材料来分类。
膜层片式电阻器的特点是有一层电阻层覆盖在陶瓷基板上。
厚膜电阻和薄膜电阻虽然外形相似,无法通过外形来识别,但是它们的特性和制造工艺却是不同。命名源于不同的层厚度。薄膜的厚度约为 0.1 um(微米)或更小;而厚膜的厚度是其数千倍,其厚度一般大于10 um。
把导电的金属粉末(氧化钌或其他合金)和绝缘体粉末(玻璃釉)混合在一起的糊状物,通过丝网印刷技术印刷在绝缘基板上,高温烧结后形成电阻,这种叫厚膜(Thick Film)技术。
通过控制金属粉末在混合物的比例,以及膜层的厚度、膜层的图案来控制电阻器的阻值。对精度要求高的,烧结后还会通过激光调整电阻层图案来精细控制电阻值。
通过溅镀技术(真空蒸发、磁控溅射等)把电阻材料层积在绝缘材料上形成电阻层,这种技术叫薄膜(Thin Film)技术。制作电阻薄膜的材料有许多,包括纯金属、金属合金、金属化合物或金属陶瓷(陶瓷和金属的组合)等。
也是通过控制电阻材料的成分,膜层厚度等方式控制电阻大体的阻值,最后通过激光调整图案来控制最终的阻值。
MELF电阻器(MELF Resistor)的英文全名为Metal Electrode Leadless Face Resistor,。中文名称也叫做无引脚电阻,或是晶圆电阻。
晶圆电阻介于贴片电阻与直插电阻之间,主要适用于电流较大/耐高压冲击/安全性要求高的高阶电路中,与直插电阻相比,由于去掉了引线,因此很大的降低了直插电阻在高频时引线所产生的寄生电感, 同时能够解决直插电阻小阻值中精度与温度系数无法提高。
MELF电阻器又根据膜层的材料主要分为:
厚膜的厚是相当于薄膜而言,薄膜技术生成的膜厚度:0.5nm ~1um;厚膜技术生成的膜厚度:1μm ~ 100μm,一般大于10μm; 金属箔的厚度在0.5μm ~ 50μm之间
材料:碳合成物(Carbon composition) > 碳膜(carbon film) > 厚膜金属氧化物(metal oxide thick film) > 薄膜金属氧化物(metal oxide thin film)
封装:Axial/MELF > 双面SMD(double-sided SMD) > 单面SMD(single-sided SMD)
碳和陶瓷合成电阻现在已基本淘汰,但是在高能或高电压的场合仍有应用。这种电阻是1927年由美国的SiC公司发明的,后来扩展到欧洲和日本,而在我国现在在军工方面仍有零星应用。
碳膜电阻也基本淘汰,但是有一个行业仍在用,那就是高端音频行业——音质很好。
厚膜(贴片)电阻是目前主流的电阻技术。
线绕电阻也基本被淘汰,在小功率的场合比如1W以下已经无人采用,大功率5W或10W则是不得已而用之。
精密合金电阻包括锰铜和镍铬合金,主要是小阻值。
精密厚膜电阻在国内基本没有厂商在做,而是主要集中在欧美——这个技术可以实现超低温漂、超高电压下的稳定性。
在贴片方面,精密厚膜电阻在向精密薄膜电阻转变,后者有很多优势,比如低噪声、低温度系数、高精度。精密线绕电阻则曾经被用作1Ω电阻的标准。
金属箔电阻(1962年出现,工艺无变化)对其他电阻形成碾压,是目前最精密的电阻。
电阻工艺 | 膜层 Film | 金属元素 Metal Element | 合成物 Composition | ||||||
片式 | 插件 or MELF | ||||||||
厚膜 Thick Film | 薄膜 Thin Film |
碳膜 Carbon Film | 金属膜 Metal Film | 金属氧化膜 Metal Oxide Film |
绕线 Wirewound | Metal Foil金属箔 | 金属条 Metal Strip |
||
电阻类型 | 厚膜片式电阻器 | 薄膜片式电阻器 | 碳膜电阻器 | 金属膜电阻器 | 金属氧化膜 电阻器 |
绕线电阻器 | 金属箔电阻器 | 金属条电阻器 | 合成物电阻器 |
阻值范围 | 5mΩ ~ 1TΩ ![]() |
0.03 ~ 86MΩ | 1Ω ~ 10MΩ | 100mΩ ~ 10MΩ | 0.1Ω ~ 3GΩ![]() |
5mΩ ~ 6MΩ | 0.5mΩ![]() |
20µΩ ~ 500mΩ | 0.2Ω![]() |
精度[%] | ±0.1![]() |
±0.01 ~ ±10 | ±1 ~ ±10 | ±0.01![]() |
±0.1 ~ ±20 | ±0.005![]() |
±0.01![]() |
±0.5 ~ ±1 | ±5 ~ ±20 |
温度系数 [ppm/K] | ±25![]() |
±1 ~ ±500 | -1500 ~ ±450 | ±2 ~ ±600 | ±50 ~ ±500 | ±10![]() |
±0.2![]() |
±25 ~ ±400 | -1500 ~ ±300 |
最高工作温度 [°C] | +300![]() |
+250 | +155 | +175 | +230 | +450![]() |
+240 | +170 | +350 |
工作电压 Umax.[V] | 50 ~ 6000![]() |
30 ~ 1000 | 150 ~ 500 | 25 ~ 1000 | 150 ~ 45K | 75 ~ 1000 | 75 ~ 300 | (P x R)1/2 | 200 ~ 550 |
电流噪声 [μV/V] | < 10 | < 0.1 | < 1 | < 0.2 | < 0.2 | 忽略不计 | 忽略不计 | 忽略不计 | 2 ~ 6 |